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肖特基缺陷
肖特基缺陷是由於晶體表面附近的原子熱運動到表面,在原來的原子位置留出空位,然後內部鄰近的原子再進入這個空位,這樣逐步進行而造成的,看來就好像是晶體內部原子跑到晶體表面來了。顯然,對於離子晶體,陰陽離子空位總是成對出現;但若是單質,則無這種情況。除了表面外,肖特基缺陷也可在位錯或晶界上產生。這種缺陷在晶體內也能運動,也存在著產生和複合的動態平衡。對一定的晶體來說,在確定的溫度下,缺陷的濃度也是一定的。空位缺陷的存在可用場離子顯微鏡直接觀察到。
肖特基缺陷
一般來說,隨著溫度的升高,缺陷的濃度會增大對於典型的離子晶體鹼金屬鹵化物,其肖特基缺陷形成能較低,所以,肖特基缺陷主要存在於鹼金屬鹵化物中,但只有高溫時才明顯;不過尚只有個別例外。對於氧化物而言,其離子性顯然小於鹼金屬鹵化物,所以它的肖特基缺陷形成能較高,只有在較高的溫度下,它的肖特基缺陷才變得重要。
肖特基缺陷和弗侖克爾缺陷之間的重要差別之一,在於前者的生成需要一個像晶界、位錯或表面之類的晶格混亂區域,使得內部的質點能夠逐步移到這些區域,並在原來的位置上留下空位,但弗氏缺陷的產生並無此限制。當肖特基缺陷的濃度較高時,用比重法所測得的固體密度顯著地低於用X射線分析得出的晶胞大小數據計算所得的密度。弗倫克耳缺陷:間隙原子和空位是成對出現的。肖特基缺陷:只在晶體內形成空位而無間隙原子。
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