標籤:硅化物

metallic silicides
金屬與硅生成的化合物。
常分成兩大類:(1)難熔金屬硅化物,指周期表IVB、VB、VIB族元素的硅化物,如硅化鈦、硅化鋯、硅化鉭、硅化鎢等;(2)貴金屬和近貴金屬硅化物,如硅化鈀、硅化鉑、硅化鈷等。其共同特點是:熔點高(大都在1500℃以上),最低共熔溫度高(大都在1000℃以上)。電阻率低(約為10-7Ω·m),硬度高。
多在超大規模集成電路中使用,如用作金屬柵、肖特基接觸、歐姆接觸等。
製備方法主要是用澱積金屬與硅的混合物燒結而成。澱積法主要有:蒸發、濺射、電鍍、化學氣相澱積等。
金屬硅化物的特性是與酸反應生成硅烷。SiH4.
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