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電子工業用試劑

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1電子工業用試劑

chemicals for electronic industry
用於半導體工業、微電子工業的化學試劑。電子工業範圍廣,所用材料品種繁多。特別是半導體工業、微電子工業的發展,所用化學試劑也隨之迅速發展。自從硅平面工藝建立后,半導體工業獲得飛速進展,其中一個重要的原因就是不斷開發先進技術和相應的各種新型試劑。

2電子工業用試劑主要有以下幾種

② 高純試劑
又稱高純化學品,它的應用,貫穿於整個電路生產的工藝過程中。它的質量對控制沾污,提高集成電路成品率,起著重要作用。主要包括兩類:第一類在制半導體器件和集成電路生產中,除高純單晶和超純氣體外, 並要有控制地摻入適量的雜質元素,以使之具有所需要的電性能。這種摻入的雜質稱為摻入劑,主要是砷、磷、硼的化合物,如三氧化二砷、三氯化磷、三氯氧磷、三溴化硼、砷烷、磷烷、硼烷等。這類試劑純度很高,一般金屬元素雜質要控制在0.1~0.001ppm,非金屬元素雜質控制在0.1ppm以下。第二類在蝕刻過程中用於清洗、顯影、腐蝕、去膜等工序。這類試劑包括硫酸、鹽酸、硝酸、氫氟酸、過氧化氫等無機物和丙酮、甲醇等10多種有機溶劑。隨著 MOS(金屬-氧化物-半導體)電路的出現,特別是大規模及超大規模集成電路的發展,對高純試劑的純度和凈度要求也越來越高,除在純度上要求金屬元素的雜質控制在ppb級,非金屬元素達到0.1ppm的水平外,對塵埃粒度也有一定的要求,目前最高要求為: 100ml的液體中,2μm以上的顆粒不超過100個或300個。根據集成電路的集成度不同,有不同的質量標準。
為了適應高純和超凈的質量要求,生產這些試劑的某些工序,要在100級的超凈環境下進行。所用的高純水,產品容器的清洗、分裝、包裝以及產品的貯存等工序都有一套相應的超凈技術,以防止塵埃侵入產品。80年代這類試劑在中國的生產規模為數百噸,電子工業發達的國家已達萬噸規模。

③ 液晶

是電子工業中另一種新型材料。液晶的應用已有十多年的歷史,現在主要應用於電子工業。
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