評論(0

電子束曝光系統

標籤: 暫無標籤

澳大利亞研究人員正在研製世界最強大的納米設備之一——電子束曝光系統(EBL)。該系統可標記納米級的物體,還可在比人發直徑小1萬倍的粒子上進行書寫或者蝕刻。電子束曝光技術可直接刻畫精細的圖案,是實驗室製作微小納米電子元件的最佳選擇。

1 電子束曝光系統 -簡介

電子束曝光系統電子束曝光系統

澳大利亞研究人員正在研製世界最強大的納米設備之一——電子束曝光系統(EBL)。該系統可標記納米級的物體,還可在比人發直徑小1萬倍的粒子上進行書寫或者蝕刻。

電子束曝光技術可直接刻畫精細的圖案,是實驗室製作微小納米電子元件的最佳選擇。這款耗資數百萬美元的曝光系統將在澳大利亞亮相,並有能力以很高的速度和定位精度制出超高解析度的納米圖形。該系統將被放置在即將完工的墨爾本納米製造中心(MCN)內,並將於2010年3月正式揭幕。

2 電子束曝光系統 -應用

該設備將幫助科學家和工程師發展下一代微技術,在面積小於10納米的物體表面上實現文字和符號的書寫和蝕刻。此外,這種強大的技術正越來越多地應用於鈔票詐騙防偽、微流體設備製造和X射線光學元件的研製中,還可以支持澳大利亞同步加速器的工作。

對澳大利亞科學家研製最新的納米儀器十分重要,其具有無限的潛力,已被用於油漆、汽車和門窗的凈化處理,甚至對泳衣也能進行改進。而MCN與澳大利亞同步加速器相鄰,也能吸引更多的國際研究團隊的目光。

3 電子束曝光系統 -背景資料

MCN的目標是成為澳大利亞開放的、多範圍的、多學科的微納米製造中心。該中心將支持環境感測器、醫療診斷設備、微型納米制動器的研製,以及新型能源和生物等領域的研究和模型繪製。除電子束曝光系統外,MCN中還包含了高解析度雙束型聚焦離子束顯微鏡、光學和納米壓印光刻儀、深反應離子蝕刻儀和共聚焦顯微鏡等眾多設備。

相關評論

同義詞:暫無同義詞